Initial Lisi enamel opal booster 20 g
Voor lithiumdisilicaat. Voor individuele laagopbouw en in de cut-backtechniek volgens het beproefde GC Initial-keramiekconcept.
Voor lithiumdisilicaat. Voor individuele laagopbouw en in de cut-backtechniek volgens het beproefde GC Initial-keramiekconcept.
Voor lithiumdisilicaat. Voor individuele laagopbouw en in de cut-backtechniek volgens het beproefde GC Initial-keramiekconcept.
Uitstekende natuurlijke esthetiek, speciaal ontwikkeld voor en aangepast aan de lichtdynamiek van lithiumdisilicaat. Lage baktemperatuur en exact op elkaar afgestemde thermische uitzettingscoëfficiënten met hoge stabiliteit, ook na meermaals bakken. Omvangrijk kleur- en lagensysteem. Eenvoudige hantering en korte inwerkingstijd. Snelle, esthetische en economische resultaten.
| Inhoud | 20 g |
|---|---|
| Technische omschrijving | WAK 9,3 x 10-6K-1 (25-500 °C); baktemperatuur 760 °C (1e dentine); glastransformatietemperatuur 520 °C; buigsterkte 90 MPa; dichtheid 2,4 g/cm³; oplosbaarheid 16 µg/cm²; gemiddelde korrelgrootte 25 µm |